薄膜測定      分光エリプソメーター GES5E

エリプソメーター GES5E

概要

 

新製品 分光エリプソメーター SE-2000

seminer



分光エリプソメーターでは、数Å~数十μmの薄膜の膜厚値、屈折率、消衰係数などを非接触・非破壊で 高精度で測定することが可能です。

エリプソメーターのパイオニア 仏SOPRA社の技術を継承し、SEMILAB社として製品をご提供しています。

分光エリプソメーター業界屈指の実績があり、研究開発からインライン生産品質管理など様々な用途でご使用を頂いています。

分光エリプソメーターGES5Eは、あらゆる種類の太陽電池、有機材料、化合物半導体、FPD、ナノテク材料、燃料電池、医療など様々な分野にてご使用頂けます。

薄膜、多層膜の膜厚、及び各層の屈折率(N,K値)波長スペクトルを算出します。回転補償子型分光エリプソメーターにPMT SCANタイプやCCDタイプ等のディテクターを搭載できるなど、 用途に応じて様々な分光エリプソメトリーの組み合わせが可能であり、また、赤外や深紫外を使用した従来の光学測定器では行えなかった測定も非破壊にて実現します。

分光エリプソメーターの測定可能な物理特性

- 膜厚値(単層膜、多層膜)
- 屈折率Nと消衰係数K
- 屈折率の勾配と材料組成
- Mueller Matrix
- 偏光解消度
- 異方性
- 反射率・透過率
- バンドギャップ
- エピタキシャル層の評価
- ドーパント濃度
- リタデーション(R0, Rth)

分光エリプソメーターでは、全波長領域における測定データ(Ψ,Δ)に対して適切な光学モデルを用い解析を行います。解析の結果として、各層の膜厚値、屈折率、消衰係数が得られます。膜厚値は、サブ・ナノメートルから測定が可能で、再現性にも優れています。一般的な膜厚計とは異なり、非接触・非破壊で各層の膜厚と光学定数の解析が高精度で行えますので、多層薄膜や材料の光学特性の検査に幅広く使用されています。

マッピング測定結果

エリプソメーター 膜厚面内分布
膜厚 面内分布
エリプソメーター 屈折率面内分布
屈折率 面内分布

解析結果 イメージ

エリプソメーター 屈折率データ
屈折率N
エリプソメーター 消衰係数データ
消衰係数K

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分光エリプソメーター 仕様

- 波長範囲:193nm - 2400nm以上
- 測定スピード:全波長範囲 数秒
- 回転補償子型
- 入射角度 自動可変
- マイクロスポット
- 最大サンプルサイズ 300mm□
- XYマッピング等、各種サンプルステージ

分光エリプソメーターGES5Eは、深紫外から近赤外領域まで幅広い波長領域の測定に対応しています。 回転補償子法により、従来の分光エリプソメーターでは実現が難しかった高精度な測定が可能となりました。

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対応アプリケーション

- 半導体
- シリコン、有機、化合物半導体
- 太陽電池
- ポリマー
- フラットパネル・ディスプレイ
- 医療、バイオ
- PETフィルム
- 燃料電池
- 生産向け大面積パネルマッピング測定
- Roll to Roll でのインライン品質管理
- R&D
- その他の薄膜

エリプソメーターでは、シリコンや化合物半導体、ガラス、石英などの一般的な基板から、 PETやPENフィルムや金属などの基板上に成膜された薄膜の測定まで様々なアプリケーションで ご使用を頂けます。

アプリケーション・ノート
シリコン基板上の酸化膜測定例.pdf
有機EL.pdf
太陽電池.pdf
SiGe膜厚マッピング.pdf
フォトレジスト.pdf
低温ポリシリコン.pdf

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オプション類

- FTIR 
- EPA (細孔率分布測定)
- マイクロスポット
- コンペンセーター
- 自動マッピング・ステージ
- 各種サンプル・ステージ
- シート抵抗
- ラマン分光
- 反射率・透過率測定
- その他

分光エリプソメーターGES5Eでは、XY/Rho-Thetaマッピングステージ、温度コントロールステージなど一般的なサンプルステージから、FTIR、シート抵抗、ラマン分光測定などの多彩なオプション類が取り揃えてありますので、様々なアプリケーションでご利用頂けます。

分光エリプソメ―ター 原理

エリプソメーター 測定原理
エリプソメトリー 測定原理イメージ図

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エリプソメーター ラインナップ

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