分光エリプソメトリー

分光エリプソメーターは、透明薄膜の膜厚測定と光学定数（屈折率Nと消衰係数K）を精度良く測定します。薄膜の膜厚値は、数オングストローム～数10μmの単層膜、多層膜の測定が可能です。多層膜測定では、各層の屈折率と消衰係数を求めることができます。

非接触・非破壊かつ高速測定が可能なため、半導体（シリコンSi、有機材料、化合物半導体SiC、GaNなど）、ディスプレイ、太陽電池、バイオ、ナノテクノロジーなどの様々なアプリケーションでご利用頂いています。

エリプソメトリーは絶対的な光学的測定法であり、物質から反射された光の偏光状態の変化を測定します。反射された物質の原子構造により、偏光の状態が変化をするため、この物質の材料特性（膜構造と光学特性）の抽出が可能になります。

偏光の状態変化は、複数の光学コンポーネントが光偏光を変調させる様々な方法で特定できます。セミラボでは、最先端の技術である回転補償子法を採用しており、ハイエンドの広帯域補償子が回転角に応じて異なる位相転移を生じさせることで、エリプソメトリーパラメータ（ΨΔ）をスペクトルとして特定できます。

エリプソメトリーは間接的なメトロロジーであるため、膜厚値や屈折率の値を抽出するには、実際の物質構造のモデリングとパラメータフィッティングが必要になります。セミラボの分光エリプソメトリーアナライザー（SEA）ソフトウェアは、実際の物質構造のモデルを構築するための幅広い手法や、解析モデルパラメータをフィッティングして正しい結果を取得するための強力なアルゴリズムを装備しています。