薄膜特性評価

   薄膜の特性評価は、様々な側面から行うことができます。

   下記のアプリケーションは幅広い薄膜の分類に、簡潔かつ明確な情報を提供できます。

  • 光学/電子/エネルギーアプリケーション

    ・太陽電池材料・サーモクロミック・エレクトロクロミック材料・ナノ結晶膜・薄膜・ドープ層
        温度依存光位相転移の研究。

  • バイオエリプソメトリー

    ・単分子コーティングの位相転移とミュラーマトリクスの測定に基づくバイオセンサー。
    ・自然から着想を得た異方性材料・全内部反射エリプソメトリー・固液界面の研究。

  • リアルタイムエリプソメトリー

    ・真空室の成膜サイクル中のin-situ測定。

  • その他

    ・グラフェンや新2D/3D材料。
    ・パターン付き表面のプラズモン応答の特性評価。
    ・反射角/射角スキャトロメトリー。
    ・光機能(屈折率、吸収)vs波長の高精度判定。

薄膜特性評価

テクノロジー

分光エリプソメーターとは(薄膜特性評価)

分光エリプソメーター(薄膜特性評価)は、精密な薄膜評価を必要とする幅広い分野で活用されている装置です。

 

アプリケーションとしては、主にシリコン半導体やSiC、GaNなどの化合物半導体、有機ELなどのフラットパネルディスプレイ、ペロブスカイトなどの太陽電池の製造工程や研究開発現場で薄膜の検査用途に使用されています。

エリプソメーターの発展版として誕生した分光エリプソメーターは、物質の屈折率nと消衰係数 kの周波数依存性(n, kスペクトル)が、光電場に対して物質が応答することで決まる関係を考慮したスペクトル解析を行うことにより、従来の単一波長による測定とは本質の異なった、より精度の高い測定を可能としています。

エリプソメーターとは

エリプソメーター(Ellipsometer)とは日本語で楕円偏光解析装置のことで、光を利用して膜の厚みや屈折率などを計測する機器です。現場では、「エリプソ」と省略して呼ばれることもあります。

光源から斜めに照射された光がサンプルに当たり、反射してセンサで受光したとき、光の変化具合によって膜の厚みや屈折率などが分かる仕組みです。よって正しい数値を出すには、サンプルを置いた基板もしくはサンプルの表面で、光が十分に反射する状態で計測する必要があります。

エリプソメーターはレーザーを光源とする単波長タイプと、白色光を光源とする分光タイプの2種類があり、より複雑な測定をする場合は分光タイプが適しています。

分光エリプソメトリー測定法の長所・特徴

分光エリプソメトリー

光学式ポロシメーター

 

光学式ポロシメーター(EP)では、揮発性溶媒の吸脱着中の材料の光学特性と膜厚の変化を、アプリケーションに応じて大気圧(EPA)または真空中(EP)で測定します。EP法は、10nmまでの超薄膜の細孔率を測定できる独自の技術であり、優れた再現性と測定スピードを誇ります。光学式ポロシメーターは、従来のポロシメーターよりも、超薄膜の細孔サイズと細孔サイズ分布の測定に適しています。膜の細孔率は、Low-k材料を用いたシリコンベース技術、有機化学分野(カプセル化OLED)、SolGel技術を用いるコーティング分野で重要となる物理量です。

光学式ポロシメーター(EP)技術は、IMECが特許を持ち、セミラボが排他的ライセンスを所有しています。

光学式ポロシメーター

分光反射率計

分光反射率は、ある波長範囲で薄膜(あるいは積層膜)から反射される光の量を、入射光がサンプル表面に垂直な状態で測定したものです。この光学法は非接触式で、サンプルを分離する必要がなく精度良い測定が可能です。

分光反射率により、膜厚、光学特性、界面ラフネスを特定することで、薄膜の特性評価が可能になります。反射率は、光学的膜厚のみを屈折率なしで提供し、吸収は波長ごとに計算されます。物理的厚さを抽出するには、データベースの屈折率Nと消衰係数Kの値を用いるか、わずかなパラメータを含んだ分散法を使う必要があります。膜厚と光学特性は解析フィッティングにより特定され、反射率の測定値が推定されたサンプル構造に基づき、反射率のシミュレーション値と比較されます。この分散法は、特定の材料、すなわち誘電体や半導体などの材料特性の検査に有効な手段になります。

 

分光反射率計

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