R2R SE
膜の均一性・同質性を瞬時に特定することは、コーティング品質のin-situプロセス管理で重要な要素です。分光エリプソメトリー（SE）は、測定法として、薄箔基板上の薄膜コーティングの特性評価に必要な高速かつ確実な測定を保証します。セミラボの新型R2R SEメトロロジープラットフォームは、ロール間で移動中の金属箔の多層厚さと屈折率を、1ポイントあたり100ms未満の取得時間で、コーティングプロセスの直後にOn the Flyで特定します。
特徴とシステム仕様：
- 多層コーティングの高速で正確な分析 - 評価のフィードフォワード機能
- 一度に1つの層のみを順次に（ステップバイステップで）評価し、積層全体の分析は不要
- 透明基板の裏面から反射される迷光の除去
- スポットサイズ：500μm（633nm時）
- スペクトル範囲：VIS/NIR
インライン管理：
- 反射率
- 層厚
- Ga成分（CIGS）
- 導電性（TCO）
- ラフネス
