インライン分光エリプソメーター μSE-3000 / SE-3000

μSE-3000 / SE-3000

製造ラインに理想的な薄膜特性評価装置

300mmウェハ対応、パターン付きウェハーアプリケーション向けのマイクロスポット分光エリプソメーターです。

成膜プロセスにおいて、薄膜や多層膜の膜厚値及び屈折率分布(屈折率、消衰係数)を高精度に評価します。回転補償子型分光エリプソメーターで、紫外領域から近赤外領域までの広い波長領域による測定により、高測定かつ高精度な測定を実現しました。半導体プロセスにおいて、薄膜、多層膜、エピタキシャル層などの薄膜評価にご使用頂けます。

ウェハの応力測定(ストレス測定)およびBow. Warp測定(反り測定)にも対応しています。

特長とシステム仕様:

  • DUV~可視対応エリプソメーターを標準構成で実現
  • 回転補償子型エリプソメーターによる高精度測定
  • 膜厚値、屈折率、消衰係数測定
  • 波長範囲:193~900nm
  • 測定可能ボックスサイズ:50µm
  • 全自動特性評価
  • 使いやすいSAMソフトウェア、SEMI®規格(E95-0200)に準拠
  • 小型スポット用に特別設計された光学系
  • CognexPatmax®パターン認識
  • 高精度自動XYZマッピングステージ
  • 高速自動フォーカスモジュール
  • 光学プリアライナー

アプリケーション:

  • 主なアプリケーション:
    • フロントエンドアプリケーション
    • 製品用ウェハーのモニタリング
    • プロセス開発
  • 高度なプロセス管理:
    • ウェハー面内均一性
    • ウェハー間均一性
    • バッチ間均一性

オプション:

  • メトロロジーオプション(標準分光エリプソメトリーへの追加オプション):
    • 分光反射率計(SR)
    • ラマン分光
    • ウェハ 応力測定(ストレス測定)
    • ウェハ 反り測定(Bow/Warp)
  • ローディング:
    • ウェハサイズ:200mm / 300mmに対応
    • FOUP、オープンカセット構成
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