単波長エリプソメトリー
レーザーエリプソメトリーは、
サンプルから反射または透過される光の偏光状態の変化を測定します。
偏光状態の変化は、振幅比Ψと位相差Δとして表され、
測定されるデータは個々の材料の光学特性と厚さで異なります。
このため、主にエリプソメトリーは膜厚と光学定数を特定するために使用されますが、
散乱光測定法を用いることでラフネス層と表面形状の特性評価にも適用されます。
製品ラインナップ
LE
アプリケーション:トンネル酸化物(Si上の薄いSiO2)と、SiO2/Siウェハー上のポリSiの構造モニタリング