化合物半導体ウェーハ対応 非接触抵抗率マッピングシステム COREMA-2000

SiC・GaAsなど半絶縁性材料の生産管理を革新する、次世代の非破壊・非接触メトロロジーソリューション

主な特長

非接触・非破壊による高精度な半絶縁性化合物半導体の品質評価

COREMA-2000は、非接触静電容量技術をベースにした、半絶縁性化合物半導体向けの非接触・非破壊抵抗率測定システムです。
高周波(RF)デバイス、オプトエレクトロニクス（光電導）＆フォトニクス等の半絶縁性基板の抵抗率測定に最適です。
ウェーハに傷をつけることなく、ルーチンでの製造工程管理や品質評価を高精度に行うことができます。

広帯域測定レンジと優れた再現性

• 10⁵～10¹² Ωcmの広範な測定レンジ：超ワイドレンジに対応し、多様な半絶縁性材料の特性評価を1台でカバーします。
• 優れた測定再現性：もっとも要求の厳しいの領域において、高い再現性を誇ります。

視認性に優れたフルウェーハ・カラーマッピング（トポグラム）

測定データは高解像度な「フルウェハ・トポグラム（全面マッピング）」としてカラー表示されます。ウェーハ面内の抵抗率の微小なバラつきや偏差を即座に視覚化（カラーコード化）できるため、異常の早期発見やプロセスの改善に直結します。

20年以上の実績に基づく信頼の技術とグローバルサポート

本システムは、SemiMap社が培った20年以上の高度なノウハウと、Semilab社の洗練された最新ソフトウェア技術の融合によって誕生しました。
長年Semilab製品をご愛顧いただいているお客様にも馴染みやすい、ユーザーフレンドリーな操作インターフェースを搭載しています。

アプリケーション

COREMA-2000は、RF（高周波）デバイス、パワーエレクトロニクス、オプトエレクトロニクス、フォトニクス市場における製造プロセスの最適化と、製造管理（プロダクションコントロール）を実現します。
半導体デバイスの性能に直結する「抵抗率の面内均一性」の徹底した監視に最適です。

主な対象市場・分野

• 高周波（RF）通信市場：5Gや次世代通信向けデバイスの基板評価
• パワーエレクトロニクス（高出力デバイス）市場：次世代パワー半導体の開発・量産管理
• オプトエレクトロニクス（光電導）＆フォトニクス市場：光学素子・センサー材料の特性評価
• 材料研究開発（R&D）：新規化合物半導体材料の詳細な分析と評価

対応材料・基板（例）

材料による制限がなく、主要なすべての半絶縁性基板および各種化合物材料に対応します。

• SiC（シリコンカーバイド）：RF、マイクロ波、高出力パワーデバイス向け
• GaAs（ガリウムヒ素）：RF、オプトエレクトロニクス、フォトニクス向け
• （酸化ガリウム）：次世代超高耐圧・高周波パワー半導体向け
• InP（インジウムリン）：高速電子デバイス、光通信、太陽光発電向け
• その他、GaN、CdTe、Cd(Zn)Te などの各種基板に柔軟に対応

主な仕様

SEMI標準（M87-0422）に準拠したメトロロジーパラメータにより、極めて精緻で信頼性の高い抵抗率マッピングを提供します。