エピ抵抗率測定装置 QCシリーズ

セミラボのエピタキシャルモニタリング用QCプラットフォーム（表面近傍ドーピングマッパー）は、プロセスウェハーの表面近傍のドーピングを非接触、非破壊、高スループットで確実にマッピングできる唯一のシステムです。

特徴：

• 汎用（p型とn型の両方向け）のUV/コロナ前処理が組み込まれており、300mmまでのウェハーのUV酸化を改良・最適化。フィードバックループ制御型の正確なコロナチャージ法を用いた新機械・電子設計の新型コロナシステム。
• ウェハー/チャックの平坦度に左右されない新センサー設計。
• 高速ながらも完全なフルウェハーマッピング測定により、驚異的なスループットを保証し、エピタキシャルプロセスのモニタリングと管理を実現。
• 改良版の新型ソフトウェアによる多数のメリット（たとえば、柔軟な構成が可能、マルチタスキング、リアルタイムのデータモニタリング、レシピ生成が簡単、ジョブキューイング、300mm SECS/GEMに完全準拠、など）。
• 精密な位置決めが可能なウェハー移動ステージ
• 他のメトロロジーでは表面感度の高さが原因で見逃される可能性のある問題を検出
• ICの非常に重要なデバイス領域内のエピ層を評価
• 表面近傍のキャリア・ライフタイムをウェハー汚染の指標として提示
• 高速なフルウェハーマッピング機能（ウェハーあたり2000ポイント超、約600ポイント/分）
• すべてのドーピングの組み合わせを測定：n/p、n/n、p/n、p/p
• 通常使用される抵抗率範囲：
  • n型：0.03～50Ωcm
  • p型：0.03～100Ωcm