製品概要
セミラボ（Semilab）のPMR（光変調反射率）システムは、アニール（熱処理）前のウェーハに対し、非破壊でインラインのイオン注入モニタリングを可能にする革新的な計測ソリューションです。 従来の工程を大幅に短縮し、高精度な注入線量の面内変動評価を実現します。
主な特長
- 非破壊・アニール不要のインライン計測：イオン注入直後の活性化アニール処理なしで、注入濃度や面内変動を評価でき、工程の迅速なフィードバックを可能にします。
- 圧倒的な低コスト：競合他社製品と比較してメンテナンスコストが大幅に低く、総所有コストを最小限に抑えます。従来システムの約半額のコストで導入可能です。
- 優れた長期安定性と再現性：アクティブレーザー光強度安定化システムの採用により、信号再現性と長期安定性が飛躍的に向上しています。
- 幅広い対応範囲：低線量から高線量、およびkVからMeVの広範なエネルギー域でのモニタリングに対応します。
- 高解像度計測：3µmという極小スポットサイズとパターン認識機能を備え、パターン化されたウェーハ上でも精密な計測が可能です。
製品仕様
PMR-2200SとPMR-3000Sは、共通の高性能計測技術をベースに、異なるウェーハサイズやロードポート構成に対応しています。
主な仕様
| 項目 | PMR-3000S | PMR-2200S |
|---|---|---|
| 対応ウェーハサイズ | 200 mm / 300 mm | 100 / 150 / 200 mm |
| 計測手法 | 光変調反射率 | ← 同左 |
| スポットサイズ | 3 µm | ← 同左 |
| 線量範囲 | 10¹² - 10¹⁶ cm⁻² | ← 同左 |
| 信号再現性 | 3σ < 0.3% | ← 同左 |
| ロードポート | FOUP（自動、OHT対応） | SMIF / オープンカセット |
| 通信規格 | SECS/GEM対応 | SECS/GEM対応 |
スループット情報（一例）
- 標準5点測定：非パターンウェーハ 50 WPH / パターンウェーハ 30 WPH
- 標準9点測定：非パターンウェーハ 30 WPH / パターンウェーハ 21 WPH
オプション・拡張機能
ユーザー様のニーズに合わせ、以下の拡張機能や将来的なアップデートが用意されています。
- SE-RCE（回転補償器）の統合：より詳細な計測を可能にする分光エリプソメトリ技術の組み合わせ。
- SiC向けモニタリング（新製品・PMR-C）：パワーデバイス市場で需要が高まるSiC（炭化ケイ素）ウェーハへの対応。
- 走査計測・マイクロマッピング：高ポイント数測定におけるスループット向上と、より詳細な面内分布評価。
- 設置面積縮小プラットフォーム：最大8インチ対応のコンパクトな「プラットフォーム2300」による省スペース化 。
