FTIR反射率測定装置（EIR）
セミラボのFTIR反射法は、干渉波形（インターフェログラム）減算法を適用可能であると同時に、高度で多用途のSEA分析ソフトウェアを用いた光学解析モデルベースのアプローチも選択可能です。解析モベルベースのアプローチでは、エピ層の厚さを考慮に入れるだけでなく、膜質評価として有効である屈折率の判定も可能になります。
図2.FTIR反射法
図3.FTIR干渉計 光路
・反射モードでのサンプルの測定は、IR波長域で実現
・干渉縞を反射スペクトルで観察
・安定した検出器が室温で作動（メンテナンス不要で、低コスト）
・評価は、直接反転法（厚いエピ層の場合）または光学モデリング（厚さ＜2µmのエピまたは複雑な積層の場合）で実行
図4.シリコンウェハー上のシリコンエピ層、IR反射測定モード
図5.測定例
上の測定例では、100nmエピ膜厚の膜厚プロファイルは、ウェハーの中心は薄く、ドーナツ型のように変化しています。
特徴
- ・非接触・非破壊の光学的測定
- ・単層&多層構造に対応 – 各層ごとの厚さ測定
- ・適合材料：Si、SiC、SOI、SiGe、III – V
- ・オプションの測定法：直接、または光学モデリング
製品ラインナップ
EIR
モジュール性と汎用性が高く、確実で高スループットのエピ膜厚測定のニーズを満たします。
最新式の自動化測定装置で、高速マッピングステージの搭載はもちろんのこと、手動でもジョイスティックでサンプルの動きを簡単に制御（測定点の手動設定用）することが可能です。
エピ膜厚測定装置 EIR-シリーズ
エピ膜厚測定装置EIRは、FTIRと赤外干渉の原理を用いて、エピタキシャル膜（エピ膜）の膜厚値を精度良く測定します。従来のFTIRでは測定が困難であった遷移領域の膜厚まで非接触、非破壊で測定します。炭素濃度、酸素濃度測定にもご使用頂けます。
