FTIR反射率測定装置(EIR)

 

セミラボのFTIR反射法は、干渉波形(インターフェログラム)減算法を適用可能でありながら、高度で多用途のSEA分析ソフトウェアを用いた光学解析モデルベースのアプローチでもあります。解析モベルベースのアプローチでは、エピ層の厚さを考慮に入れるだけでなく、屈折率の判定も可能です。

図2.FTIR反射法図2.FTIR反射法

図3.光路図3.光路

 

反射モードでのサンプルの測定は、IR波長域で実現。

干渉縞を反射スペクトルで観察。

安定した検出器が室温で作動(メンテナンス不要で、低コスト)。

評価は、直接反転法(厚いエピ層の場合)または光学モデリング(厚さ<2µmのエピまたは複雑な積層の場合)で実行。

図4.シリコンウェハー上のシリコンエピ層、IR反射測定モード

図4.シリコンウェハー上のシリコンエピ層、IR反射測定モード 

図5.測定例 - 100nmエピ膜厚の場合、プロファイルは、ウェハーの中心は薄く、ドーナツ型のように変化します。図5.測定例

100nmエピ膜厚の場合、プロファイルは、ウェハーの中心は薄く、ドーナツ型のように変化します。

 

特徴

  • ・非接触・非破壊の光学的測定
  • ・単層&多層構造に対応 – 各層ごとの厚さ測定
  • ・適合材料:Si、SiC、SOI、SiGe、III – V
  • ・オプションの測定法:直接、または光学モデリング
製品ラインナップ
EIR-2500

EIR

モジュール性と汎用性が高く、確実で高スループットのエピ膜厚測定のニーズを満たします。
最新式の自動化
高速マッピングステージ
ジョイスティックでサンプルの動きを簡単に制御(測定点の手動設定用)

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