膜厚&抵抗率測定
厚さは、シリコンPVウェハーの主要な管理パラメータです。
厚さと形状が標準ではないウェハーを除外することで、
ウェハー・セル破損による廃棄物を削減できます。
PVウェハーの厚さを測定する理由は次の2つになります。
- 1.仕様に従うため。
ウェハーの複数の点で厚さを測定することにより、次のパラメータを計算できます。- ・平均厚さ
- ・全厚さ変動（TTV）
- ・厚さ偏差
2,厚さ情報に基づき渦電流法を用いて抵抗率の値を取得し、サンプルのバルク抵抗率を報告するため。
厚さ
WMT/WMLでは、ウェハー表面からの距離をキャパシタンスプローブで測定します。
このため、結果は表面品質（反射率）に依存しません。
キャパシタンスは、プローブとサンプルとの距離に依存します。
C＝Ɛ（A/d）
dはプローブ-サンプル間の距離です。
キャパシタンスの測定値から距離を計算でき、
サンプルの両側からの距離で厚さを特定が可能になります。
抵抗率
抵抗率測定は非接触式の渦電流法に基づいています。
交流電流が導電性材料のごく近くにあるコイル内を流れます。
コイルの磁界がサンプル内に循環電流（渦電流）を生じさせます。
渦電流測定は、実際には、材料内の電気損失を測定し、これは抵抗率に依存します。
センサー内の信号は、4PPで確認されたサンプルに基づいて校正されます。
装置は、ベルト方向に平行なラインスキャンを測定します。
- ・ソーマークのラインスキャン×6（上部×3、下部×3）
- ・厚さのラインスキャン×3
- ・抵抗率のラインスキャン×1
ラインスキャンの位置：
特徴
- ・インラインPVアプリケーション用の非接触・非破壊測定
- ・全ウェハーを生産中に個別に測定可能
- ・4PPと異なり、磨耗部品なし
- ・粒子サイズに依存しない抵抗率測定
製品ラインナップ
