高度な自動化・高スループットと再現性を両立した、SMIFポッド対応
製品概要
セミラボ(SEMILAB)の「WG-2202」は、直径200mm(8インチ)までのシリコンウェーハ・ソリ形状特性(ジオメトリ)評価において、最先端の自動化製造ラインやクリーンルームへの設置を目的に設計された高性能測定システムです。
標準でSMIF(Standard Mechanical Interface)ロードポートを搭載しており、密閉管理された環境での安全かつ迅速なウェーハ・ハンドリングを実現します。
スライス、ラップ、エッチング、研削、研磨といったウェーハ製造工程のあらゆる段階における表面状態に対応可能です。
定評のある非接触・非破壊技術と高いクリーン度への適合性により、最先端デバイスFABやウェーハメーカーにおけるインラインのプロセス制御、品質管理、および歩留まり向上を強力に支援します。
WG-2202が選ばれる主な特長
- SMIFロードポート搭載による高度な汚染制御(クリーン化適合)
密閉型のSMIFポッドからの自動搬送に対応。ミニエンバイロメント(局所クリーン環境)を維持したまま測定を行えるため、微小粒子の付着や汚染(コンタミネーション)を極限まで排除し、最先端FABの厳しいクリーン要求に応えます。 - 業界最高水準の圧倒的な測定再現性
ウェーハの厚さおよびTTV(厚みばらつき)測定、反り(Bow)および歪み(Warp)測定において高い再現性を誇ります。独自の校正技術により、長期にわたりデータの高い信頼性を維持します。 - 完全非接触・非破壊の両面静電容量測定
一対の高度な静電容量式距離センサーでウェーハを上下から挟み込む両面測定法を採用。ウェーハ表面に物理的な接触を一切行わないため、デリケートな研磨面(ポリッシュ面)にも傷をつけることなく安全に測定が可能です。 - 優れたスループット性能
インラインでの全数検査や大量サンプルのスクリーニングにも余裕を持って対応します。 - 2D/3Dカラーマップによる形状の可視化
対角線に沿ってウェーハ全域を均等にサンプリング。
取得データは専用の解析ソフトウェアを介して、鮮明な2D/3D等高線マップや断面プロファイルとして出力され、プロセスの不均一性を一目で把握できます。
測定パラメータとアプリケーション(用途・オプション機能)
WG-2202は、単なる幾何形状の測定にとどまらず、デバイスプロセスに必要な高度な評価パラメータを網羅しています。
包括的な幾何形状(ジオメトリ)評価
- 厚さ(Thickness)およびTTV(総厚みばらつき)の精密モニタリング。
- 反り(ボウ/Bow)・歪み(ワープ/Warp)の定量測定。
- リソグラフィ工程の歩留まりに直結する平坦度(Flatness)の自動算出。
デバイスメーカー向けフィルム応力(膜応力)特性評価(オプション)
成膜前後のボウ(Bow)値の変化量とストーニー方程式(Stoney's equation)を用い、ウェーハのたわみから薄膜の内部応力を正確に計算。膜の剥離やパターン歪みの抑制に貢献します。
非接触抵抗率(比抵抗)測定機能(オプション)
形状測定のルーティンを崩すことなく、ウェーハの電気的特性(抵抗率)を同時に非接触測定可能
主要製品仕様・構成内容
| 項目 | WG-2202 標準仕様・構成内容 |
|---|---|
| システム形態 | 200mm対応・SMIFロードポート搭載仕様(自動化搬送対応) |
| 対応ウェーハサイズ | 直径 100 mm 〜 200 mm |
| 搬送インターフェース | SMIFポッド対応 |
| 工場通信・データ管理 | 等高線マップ、2D/3D表示、角度オフセット機能、SECS/GEM通信対応 |
| 設置環境(クリーン度) | クラス1000以上(Fed.Std.209E) /ISO : class7(推奨) |


