最先端半導体ライン・300mm量産プロセスに完全適合。高スループットで、ウェーハ形状を非接触・全自動で超精密評価。
製品概要
セミラボ(SEMILAB)の「WG-2500」は、直径300mmのシリコンウェーハの形状特性(ジオメトリ)評価に特化した、最先端のコンピュータ制御全自動測定システムです。
300mmウェーハの標準搬送インターフェースであるFOUP(Front-Opening Unified Pod)およびFOSB(Front Opening Shipping Box)に対応し、1ステーションカセットステージによるスムーズな自動ハンドリングを実現します。
デバイスFABの各種フロントエンド工程における表面状態に対応可能。
定評のある非接触・非破壊技術により、300mm次世代プロセスの形状管理、歩留まり向上、および統計的プロセス制御(SPC)を強力にバックアップします。
WG-2500が選ばれる主な特長
- 300mm全自動ラインに適合するFOUP/FOSB対応設計
密閉・自動搬送を前提としたFOUP/FOSBキャリアからの全自動ウェーハハンドリング(1ステーション構成)に対応。
最先端クリーンルーム内での粒子汚染(パーティクルコンタミネーション)を極限まで抑えた、安全かつ迅速なインライン計測を可能にします。 - 業界最高水準の圧倒的な測定再現性
300mmの大口径でありながら、ウェーハの厚さおよびTTV(厚みばらつき)測定において、反り(Bow)および歪み(Warp)測定において高い再現性を達成します。
独自技術の校正手法により経時ドリフトのない高信頼性データを維持します。 - 完全非接触の静電容量センサー技術
高精度静電容量式センサーによる「非接触・非破壊」測定方式。 - 高スループットで量産を支援
- 2D/3D等高線マップによる形状の可視化
レシピで指定された対角線に沿って、ウェーハ全域を精密にサンプリング。取得したデータは専用ソフトウェアにより、鮮明な2D/3D等高線マップや断面プロファイルとして可視化され、プロセスの不均一性を一目で把握できます。
豊富な測定パラメータとアプリケーション(用途例)
WG-2500は、基本的な寸法測定にとどまらず、最先端デバイスプロセスで要求される高度な評価アプリケーションに対応しています。
300mmウェーハ・ソリ形状(ジオメトリ)の包括的評価
- 厚さ(Thickness)およびTTV(厚みばらつき)の管理。
- 反り(ボウ/Bow)・歪み(ワープ/Warp)の定量計測。
薄膜の内部応力(フィルム応力)特性評価(オプション)
成膜前後のボウ(Bow)値の変化量とストーニー方程式(Stoney's equation)に基づき、ウェーハのたわみから薄膜の内部応力を高精度に計算。
300mm大口径化で特に顕著となる、応力起因のウェーハ反りや膜剥離、パターン歪みの抑制に不可欠な機能です。
非接触抵抗率測定機能(オプション)
形状測定のルーティンと同時に、ウェーハの電気的特性である抵抗率(比抵抗)を非接触で測定可能。
主要製品仕様・構成内容
| 項目 | WG-2500 標準仕様・構成内容 |
|---|---|
| システム形態 | 300mm対応・全自動ウェーハ形状測定システム |
| 対応ウェーハサイズ | 直径 300 mm |
| カセットステージ | 1 ステーション(FOUP または FOSB 対応) |
| データ管理・通信 | 等高線マップ、2D/3D画像、断面プロファイル、角度オフセット機能、 SECS/GEM工場通信対応 |
| 動作環境(クリーン度) | クラス1000以上(Fed.Std.209E) /ISO : class7(推奨) |

