高精度・高速薄膜解析ソリューション 回転補償子型 分光エリプソメーター SE-1000

膜厚および光学定数（n, k）を非接触・非破壊で超高精度に測定。エリプソメーターのパイオニア「SOPRA社」の技術を受け継ぎ、高度な解析ソフトウェアと高速測定を両立した次世代エントリーモデル。

主な特長

パイオニアの技術を継承した高性能・コンパクト分光エリプソメーター

SE-1000は、分光エリプソメーターのパイオニアであるフランス・SOPRA社の高度な技術と、総合測定装置メーカーであるSemilab（セミラボ）社の最新ナレッジを融合して誕生した、回転補償子型（Rotating Compensator）分光エリプソメーターです。研究開発から品質管理まで、幅広い薄膜評価ニーズに対応するエントリーモデルです。

回転補償子（RCE）技術による全方位の偏光解析

• 全位相領域（Δ=0°～360°）を高精度にカバー：
  従来の構成では測定が困難だった薄膜サンプルや、直線偏光に近い反射光でも、位相差（Δ）の全領域において正確かつ一貫した測定が可能です。
• 高スループット測定：
  波長ごとにポラライザーを動かす必要がなく、アームを固定したまま高速に分光データを取得できます。

最新の解析ソフトウェア「SEA (Spectroscopic Ellipsometry Analyzer)」を標準搭載。直感的なインターフェースにより、複雑な多層膜や異方性薄膜、ブレンド膜の解析モデル構築もスムーズに行えます。
LMA（レーベンバーク・マルカート）法を含む多彩なフィッティングアルゴリズムを自在に選択可能です。

豊富なオプションによる卓越した拡張性

サンプル表面を視認できるCCDモニターカメラや、室温から最大1000℃までの超高温域での連続自動測定に対応。
二酸化バナジウムの金属-絶縁体転移（Mott転移）に代表される、温度変化に伴う光学定数のリアルタイム追跡評価も可能です。

アプリケーション

SE-1000は、半導体、フラットパネルディスプレイ、太陽電池、光学コーティング、新材料開発など、ナノメートルオーダーの薄膜管理が求められるあらゆる分野で威力を発揮します。

主な対象プロセス・評価用途

• 極薄膜・多層膜の膜厚（Thickness）測定：
  単層膜から超多層膜まで、各層の正確な厚みを非破壊・非接触評価
• 光学定数の決定：
  波長ごとの屈折率（n）および消衰係数（k）の精密プロファイリング
• 新材料の物性評価（R&D）：
  バンドギャップエネルギーの導出、結晶性、組成比の評価、相転移（温度依存性）挙動の解析
• 表面ラフネス（粗さ）の評価：
  最表面の微小な凹凸や界面層のモデリング解析

対応材料・アプリケーション（例）

• 半導体材料：
  SiO2、SiN、High-k（高誘電率）ゲート絶縁膜、各種レジスト膜
• 透明導電膜・ディスプレイ材料：
  ITO、各種有機・無機EL材料、反射防止膜
• 結晶・相転移材料：
  VO2 などのサーモクロミック材料、誘電体薄膜
• その他、ガラス基板やシリコンウェハ、化合物半導体上の各種光学薄膜

主な仕様

信頼性の高い薄膜解析を支える、SE-1000の主要な技術パラメータです。