真空紫外分光エリプソメーター PUV SE

PUV SE

セミラボでは、135nmまで測定できる分光エリプソメーターを製造しています。波長範囲は135nm~650nmですが、オプションにより最大~2500nmの波長拡張が可能です。このため、次世代リソグラフィ(157nm、Feエキシマレーザー)用に設計されたフォトレジストやARC層などのすべての新材料や、次世代ステッパーに搭載されているすべての光学系を測定できます。

GES5Eプラットフォームに基づくこのエリプソメーターは、浄化グローブボックス内で動作し、酸素と水汚染(コンタミネーション)をppmレンジで減少させます。超圧の自動調整により、乾燥窒素がボックス内へ連続的に注入されます。1つの作動面に3つのグローブが付属しており、サンプル(直径200mmまで)をサンプルホルダーに搭載できます。光学系としては、フォトレジストのブリーチングを回避するためにプリモノクロメーターがポラライザーアームに装備されています。

このシステムでは、エリプソメトリーの他に、p偏光、s偏光の反射率と透過率の測定も可能です。

アプリケーション:

  • フォトレジスト
  • 下部/上部ARコーティング
  • フォトマスクコーティング
  • ハードマスク
  • ステッパー光学コーティング
  • ペリクル
  • 光学材料:CaF2、MgF2、LaF3など
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