PUV SE
セミラボでは、135nmまで測定できる分光エリプソメーターを製造しています。波長範囲は135nm～650nmですが、オプションにより最大～2500nmの波長拡張が可能です。このため、次世代リソグラフィ（157nm、Feエキシマレーザー）用に設計されたフォトレジストやARC層などのすべての新材料や、次世代ステッパーに搭載されているすべての光学系を測定できます。
セミラボプラットフォームに基づくこのエリプソメーターは、浄化グローブボックス内で動作し、酸素と水汚染（コンタミネーション）をppmレンジで減少させます。超圧の自動調整により、乾燥窒素がボックス内へ連続的に注入されます。1つの作動面に3つのグローブが付属しており、サンプル（直径200mmまで）をサンプルホルダーに搭載できます。光学系としては、フォトレジストのブリーチングを回避するためにプリモノクロメーターがポラライザーアームに装備されています。
このシステムでは、エリプソメトリーの他に、p偏光、s偏光の反射率と透過率の測定も可能です。
アプリケーション：
- フォトレジスト
- 下部/上部ARコーティング
- フォトマスクコーティング
- ハードマスク
- ステッパー光学コーティング
- ペリクル
- 光学材料：CaF2、MgF2、LaF3など
