半導体      インライン向けCV測定・IV測定装置FastGate  FCV-2500/3000

インライン向けCV測定・IV測定装置FastGate  FCV-2500/3000

概要

CV測定/IV測定装置FCVは、電極形成が不要な上、ウエハーにダメージを与えず、コンタミネーションも残さないことからインラインで使用出来る装置です。


USL(極浅層<40nm)のイオン注入、低ドース・イオン注入のドース量モニタリング、極薄酸化膜(<20Å)の電気的膜厚測定 SiON 膜,High k膜の誘電率測定、Epi の 抵抗率測定などが可能です。

SSMの長年の研究開発から生まれたFastGateテクノロジー。
エラスティックプローブ採用により、接触させてもウェハにダメージ・
コンタミを残さず、簡単にインラインで膜評価が可能です。

主な測定・評価項目

・電気的膜厚(CET/EOT)
・フラットバンド電圧(VFB)
・界面準位等(Dit)の測定
・リークIV測定
・USJ(40nm以下)の低ドーズイオン注入量モニタリング
・Epi抵抗率測定

測定イメージ

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