半導体      CV測定/IV測定装置 インライン汚染管理モニター FAaST

CV測定/IV測定装置 インライン汚染管理モニター FAaST - 半導体

概要

CV測定/IV測定装置インライン汚染管理モニターFAaSTは、半導体シリコンウェハーや化合物半導体SiCの汚染評価・検査用途で、半導体業界で幅広く使用されています。世界で400台以上の実績がある非接触・非破壊式の重金属汚染・CV/IV・膜評価・検査装置です。

CV測定/IV測定 FAaSTでは、測定原理としてDSPVを採用することで鉄濃度測定の感度E8を実現し、特に近年のCMOSイメージセンサーやSiCパワーデバイスの歩留まり向上に寄与しております。

CV測定/IV測定 特徴

■非接触・非破壊式CV/IVインライン測定
■超高感度汚染管理(E8レベル鉄濃度測定)
■キャリア濃度測定
■パタンモニター測定可能(SLモデル)
■PDM

主な測定・評価項目

■汚染管理
-DSPVによる拡散長測定
-鉄濃度測定(E8レベル)

■膜評価
- 電気的膜厚(CET/EOT)
- フラットバンド電圧(VFB)
- 界面準位等(Dit)の測定
- リークIV測定
- Epi抵抗率測定
- High-k評価
- Low-k評価

測定データイメージ

CV測定/IV測定装置 インライン汚染管理モニター FAaST - 半導体
ドーパント濃度測定(NSD)
CV測定/IV測定装置 インライン汚染管理モニター FAaST - 半導体
Vfb/Dot測定
CV測定/IV測定装置 インライン汚染管理モニター FAaST - 半導体
プラズマダメージ
CV測定/IV測定装置 インライン汚染管理モニター FAaST - 半導体
CET/EOT

製品レベルCV測定が可能(SLモデル)

CV測定/IV測定装置 インライン汚染管理モニター FAaST - 半導体